陈志彦
,
向洁琼
,
吴义强
,
谢力生
,
杨亿
,
李文芳
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅱ).033
以钛金属作衬底,FeSO4溶液为主要原料,采用微弧氧化法制备了磁性薄膜,薄膜的饱和磁化强度为77.7 A?m2/kg.探索了薄膜的形成工艺.运用IR、XRD、XPS和SEM等手段表征了磁性薄膜的组成和形貌,结果表明磁性薄膜主要由 Fe3 O4和(Fe2 O3)x?2 H2 O 晶体组成,表面比较光滑致密.简要推断了磁性薄膜的形成机理.
关键词:
微弧氧化法
,
磁性薄膜
,
组成结构分析
,
氧化铁
潘旋
,
周广宏
,
蒋素琴
,
朱雨富
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.10.024
通过激光加热对 Ni81 Fe19(15 nm )/Ni45 Mn55(x nm)磁性双层膜进行快速退火处理,系统研究了激光辐照参数对交换偏置场(H ex )大小的影响。结果表明,激光的能量密度强烈影响双层膜交换偏置效应,并存在一个能量密度的阈值(约为150 mJ/cm2),此时磁性双层膜能够产生较明显的交换偏置现象。磁性双层膜的H ex 随着能量密度的进一步增加逐渐变大,但随后减小直至完全消失。当 NiMn 层厚度为25 nm时,经激光加热退火处理后双层膜的H ex 最大值约为26.2 kA/m,略大于常规退火后的 H ex 值(22.3 kA/m)。
关键词:
NiMn
,
磁性薄膜
,
交换偏置场
,
激光加热退火
张贤楠
,
刘思润
,
谢娟
,
张宪民
金属功能材料
doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2015087
采用磁控溅射方法制备了单晶Fe3O4超薄膜,系统研究了厚度(3~30 nm)对薄膜磁性的影响.X射线衍射证明了Fe3O4单晶薄膜是(220)晶向,(220)衍射峰的半高全宽和晶格常数随薄膜厚度的下降而增大.磁性测量观察到了清晰的磁滞回线,饱和磁化强度达400×103 A/m.低温电阻率测量证实了薄膜在120 K温度附近发生了导体向绝缘体的Verwey转变.利用原子力显微镜观察到Fe3O4薄膜的表面粗糙度非常低,适用于纳米尺度自旋电子学器件的开发.
关键词:
Fe3O4
,
磁性薄膜
,
单晶薄膜
,
磁控溅射
,
Verwey转变